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VNX50-2

所屬分類:VNX50-2      發(fā)布時間:2019-07-01

針對大流量CEDI系統(tǒng)設(shè)計的VNX膜堆作為一種清潔、環(huán)境友好的技術(shù),相對需要化學(xué)藥劑再生的混床更有優(yōu)勢。采用大流量的CEDI膜堆可以使系統(tǒng)的配管更少,系統(tǒng)集成更簡單。

LX和VNX膜堆均采用平板式結(jié)構(gòu)設(shè)計,產(chǎn)水室和濃水室交替排布。平板式設(shè)計相對其它結(jié)構(gòu)的設(shè)計(如卷式)而言水流分布和電流分布更均勻。這對膜堆的性能表現(xiàn)和膜堆使用壽命都非常關(guān)鍵

產(chǎn)品特征:

無需化學(xué)藥劑再生

雙 O 型圈密封,保證不漏水

無需濃水循環(huán)

無需注鹽

100 psi,113 deg F (45 deg C) 下連續(xù)工作

采用專利的“全填充”集中隔箱,無需循環(huán)泵和注鹽

操作成本極低

詳細(xì)規(guī)則:

模塊規(guī)格

 

 產(chǎn)品流速,最小 m3/hr

 5.7

 產(chǎn)品流速,標(biāo)稱 m3/hr

 11.4

 產(chǎn)品流速,最大 m3/hr

 17.0

 操作參數(shù)


 典型回收率 (%)

90-95 

 最大進(jìn)料壓力,bar

 7

 標(biāo)稱壓降,bar

1.4-2.1 

 進(jìn)料溫度

5 - 45°C

 DC 電壓

 0-600

 DC 安培數(shù)

 0-19.5

 產(chǎn)品水質(zhì)規(guī)格

 

 產(chǎn)品電阻率

 >16 megohm-cm

 二氧化硅

 90 - 99%去除率

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